分會(huì)

第二十分會(huì)：固體表界面化學(xué)與多相催化

摘要

光催化降解技術(shù)是一種有效能將有毒物質(zhì)降解成低毒甚至是無(wú)害物質(zhì)的高級(jí)氧化工藝。為了抑制鹵氧化鉍半導(dǎo)體材料受光誘導(dǎo)的產(chǎn)生的電荷載流子的快速?gòu)?fù)合，已有研究表明具有半導(dǎo)體性質(zhì)的金屬有機(jī)框架材料(MOFs)可促進(jìn)電子-空穴對(duì)的分離?，F(xiàn)利用鹵氧化鉍半導(dǎo)體材料禁帶寬度小、可見(jiàn)光響應(yīng)能力和催化活性高以及金屬有機(jī)框架材料具有比表面積大、活性位點(diǎn)多等特點(diǎn)，合成鹵氧化鉍半導(dǎo)體復(fù)合金屬有機(jī)框架材料以提高光催化降解水溶液中吡蟲(chóng)啉的能力。本文介紹了鹵氧化鉍導(dǎo)體復(fù)合金屬有機(jī)框架材料光催化降解吡蟲(chóng)啉的機(jī)理,從不同影響因素探究光催化劑降解能力，并通過(guò)HPLC-MS分析降解中間產(chǎn)物和推測(cè)吡蟲(chóng)啉降解途徑。

關(guān)鍵詞

光降解；降解效率；吡蟲(chóng)啉；鹵氧化鉍；金屬有機(jī)框架

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